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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件 (2020年:第138位 311件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件 (2020年:第136位 210件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6985249 | 回転基板レーザアニール | 2021年12月22日 | |
特許 6987166 | ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ | 2021年12月22日 | |
特許 6987215 | エピタキシャル堆積プロセスのための注入アセンブリ | 2021年12月22日 | |
特許 6981991 | 水素アニールによるコバルト抵抗の回復 | 2021年12月17日 | |
特許 6982560 | プラズマフィルタリングのためのシステム及び処理 | 2021年12月17日 | |
特許 6983900 | 高圧ウエハ処理システム及び関連方法 | 2021年12月17日 | |
特許 6979881 | 多層金属誘電体膜のPVD堆積とアニール | 2021年12月15日 | |
特許 6980020 | ルテニウムドーピングにより強化される耐コバルト凝集性及び間隙充填作用 | 2021年12月15日 | |
特許 6976215 | チャンバコンポーネント用多層プラズマ腐食防護 | 2021年12月 8日 | |
特許 6976725 | ウエハ均一性のための輪郭ポケット及びハイブリッドサセプタ | 2021年12月 8日 | |
特許 6976925 | 背高の堆積リングと堆積リングクランプとを有するプロセスキット | 2021年12月 8日 | |
特許 6976972 | マイクロデバイスのマスクレス並列ピックアンドプレース移載 | 2021年12月 8日 | |
特許 6977102 | 制御された孔隙率を有する印刷された化学機械研磨パッド | 2021年12月 8日 | |
特許 6977170 | バイアス工程でのRF調整電圧 | 2021年12月 8日 | |
特許 6979030 | 化学機械研磨のためのテクスチャード加工された小型パッド | 2021年12月 8日 |
242 件中 1-15 件を表示
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6985249 6987166 6987215 6981991 6982560 6983900 6979881 6980020 6976215 6976725 6976925 6976972 6977102 6977170 6979030
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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