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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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 ■ 2021年 出願公開件数ランキング    第109位 313件 (上昇2020年:第122位 311件)

 ■ 2021年 特許取得件数ランキング    第116位 241件 (上昇2020年:第136位 210件)

(ランキング更新日:2026年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6987215 エピタキシャル堆積プロセスのための注入アセンブリ 2021年12月22日
特許 6987166 ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ 2021年12月22日
特許 6985249 回転基板レーザアニール 2021年12月22日
特許 6983900 高圧ウエハ処理システム及び関連方法 2021年12月17日
特許 6982560 プラズマフィルタリングのためのシステム及び処理 2021年12月17日
特許 6981991 水素アニールによるコバルト抵抗の回復 2021年12月17日
特許 6980020 ルテニウムドーピングにより強化される耐コバルト凝集性及び間隙充填作用 2021年12月15日
特許 6979881 多層金属誘電体膜のPVD堆積とアニール 2021年12月15日
特許 6976215 チャンバコンポーネント用多層プラズマ腐食防護 2021年12月 8日
特許 6976725 ウエハ均一性のための輪郭ポケット及びハイブリッドサセプタ 2021年12月 8日
特許 6976925 背高の堆積リングと堆積リングクランプとを有するプロセスキット 2021年12月 8日
特許 6976972 マイクロデバイスのマスクレス並列ピックアンドプレース移載 2021年12月 8日
特許 6977170 バイアス工程でのRF調整電圧 2021年12月 8日
特許 6977102 制御された孔隙率を有する印刷された化学機械研磨パッド 2021年12月 8日
特許 6979030 化学機械研磨のためのテクスチャード加工された小型パッド 2021年12月 8日

242 件中 1-15 件を表示

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6987215 6987166 6985249 6983900 6982560 6981991 6980020 6979881 6976215 6976725 6976925 6976972 6977170 6977102 6979030

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