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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第33722位 0件
（
2019年：第12951位 1件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1945位 8件
（2019年：第1357位 13件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6791651 | 予備基準マークの動的作成 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6765832 | プロセス・ガスおよび冷却された表面を使用した荷電粒子ビーム処理 | 2020年10月 7日 | |
| 特許 6758755 | 改良された画像化ガスを用いる荷電粒子ビームシステムおよびその使用方法 | 2020年 9月23日 | |
| 特許 6700664 | 相関原子分解能断層撮影分析用の適応性がある（ｍａｌｌｅａｂｌｅ）薄片の製作 | 2020年 5月27日 | |
| 特許 6645830 | 荷電粒子ビーム試料作製におけるカーテニングを低減させる方法およびシステム | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6644127 | 荷電粒子ビーム試料作製におけるカーテニングを低減させる方法およびシステム | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6632818 | 荷電粒子レンズに組み込まれた光学部品およびガス送達 | 2020年 1月22日 | |
| 特許 6629596 | エッチング速度を変化させるためのイオン注入 | 2020年 1月15日 |
8 件中 1-8 件を表示
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6791651 6765832 6758755 6700664 6645830 6644127 6632818 6629596
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