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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第986位 28件
（
2013年：第918位 34件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1392位 18件
（
2013年：第2127位 10件）
（ランキング更新日：2025年3月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5645335 | ＦＩＢパターニングを改良するためのパターン変更方式 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5635645 | ビームシステムのビームカラムを傾動する装置並びにビームシステム | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5628882 | Ｓ／ＴＥＭのサンプルを作成する方法およびサンプル構造 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5611586 | 小型の走査型電子顕微鏡 | 2014年10月22日 | |
| 特許 5599958 | 複数の検出器を備える切り替え可能な顕微鏡装置 | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5600371 | 荷電粒子ビーム処理のための保護層のスパッタリング・コーティング | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5591550 | 高選択性、低損傷の電子ビーム・デリニエーション・エッチング | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5586118 | 荷電粒子ビームシステムの操作方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5571355 | ガス増幅を使用した走査透過電子顕微鏡 | 2014年 8月13日 | |
| 特許 5523651 | 局部的プラズマ処理 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5498655 | クラスタ源を使用する荷電粒子ビーム処理 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5492364 | ３次元基準マーク | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5485209 | ビームシステムのビームカラムを傾動する方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5441242 | ビーム加工のための改善されたビーム位置決め | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5432220 | 二重ビーム装置 | 2014年 3月 5日 |
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5645335 5635645 5628882 5611586 5599958 5600371 5591550 5586118 5571355 5523651 5498655 5492364 5485209 5441242 5432220
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