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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第121位 344件
(2019年:第123位 373件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第80位 334件
(2019年:第82位 318件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6722629 | 放射性金属廃棄物の除染装置 | 2020年 7月15日 | |
特許 6723473 | 亜鉛二次電池 | 2020年 7月15日 | |
特許 6718932 | 13族元素窒化物層の分離方法 | 2020年 7月 8日 | |
特許 6719018 | マニホールド、及びセルスタック装置 | 2020年 7月 8日 | |
特許 6715050 | ガスセンサの製造方法およびガスセンサの製造装置 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715189 | ハニカム構造体 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715647 | 微構造解析方法,そのプログラム及び微構造解析装置 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715703 | 金属配線接合構造の製法 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715762 | 接合体の製造方法 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715764 | 多孔質板状フィラー、その製造方法、及び断熱膜 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715861 | 配向焼結体の製法 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6715925 | ウィック | 2020年 7月 1日 | |
特許 6716488 | 導電性ハニカム構造体 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6713653 | 中性子発生用ターゲット、中性子発生装置、中性子発生用ターゲットの製造方法及び中性子発生方法 | 2020年 6月24日 | |
特許 6713821 | Cs含有CHA型ゼオライトの製造方法 | 2020年 6月24日 |
345 件中 151-165 件を表示
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6722629 6723473 6718932 6719018 6715050 6715189 6715647 6715703 6715762 6715764 6715861 6715925 6716488 6713653 6713821
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