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ジェミナティオ，インク．
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1886位 11件
（
2023年： 0件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第27650位 0件
（2023年： 0件）
（ランキング更新日：2025年3月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ジェミナティオ，インク．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-542979 | 半導体パターニングにおける化学的選択接着及び強度促進剤 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-541937 | 積層素子作成のためのマルチレベル選択的パターニング | 2024年11月13日 | |
| 特表 2024-538251 | 多色露光のための局所的シャドウマスキング | 2024年10月18日 | |
| 特表 2024-537940 | 局所的化学物質暴露のための最適化 | 2024年10月17日 | |
| 特表 2024-535940 | アンチスペーサベースの自己整合高次パターニング | 2024年10月 2日 | |
| 特表 2024-535941 | 半導体パターニングにおける支援型フィーチャ配置 | 2024年10月 2日 | |
| 特表 2024-535122 | 狭いラインカットマスクプロセス | 2024年 9月26日 | |
| 特表 2024-535123 | 自己整合型ビルドアップ加工 | 2024年 9月26日 | |
| 特表 2024-534694 | マルチラインエッチング基板の生成 | 2024年 9月20日 | |
| 特表 2024-532623 | 高密度コンタクト形成のためのレジスト内プロセス | 2024年 9月 5日 | |
| 特表 2024-532624 | 補正化学反応による向上したフィールドスティッチング | 2024年 9月 5日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2024-542979 2024-541937 2024-538251 2024-537940 2024-535940 2024-535941 2024-535122 2024-535123 2024-534694 2024-532623 2024-532624
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