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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第384位 88件 (2021年:第171位 252件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7101353 | III族窒化物系化合物層を有する半導体基板の製造方法 | 2022年 7月15日 | |
特許 7101356 | 偏光撮像装置 | 2022年 7月15日 | |
特許 7100296 | ナフトールアラルキル樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2022年 7月13日 | |
特許 7100297 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2022年 7月13日 | |
特許 7099327 | 液晶配向剤及び液晶配向膜の製造方法 | 2022年 7月12日 | |
特許 7099328 | 配線形成方法 | 2022年 7月12日 | |
特許 7099458 | 非水系インク組成物 | 2022年 7月12日 | |
特許 7099466 | スルホ基含有高分岐ポリマーの精製方法及びその製造方法 | 2022年 7月12日 | |
特許 7096533 | 化合物、液晶組成物及び液晶表示素子 | 2022年 7月 6日 | |
特許 7096534 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2022年 7月 6日 | |
特許 7093058 | 液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 | 2022年 6月29日 | |
特許 7093059 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2022年 6月29日 | |
特許 7093064 | 窒素含有溶媒に分散したアルミニウム含有シリカゾル及び樹脂組成物 | 2022年 6月29日 | |
特許 7092036 | アミド溶媒を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2022年 6月28日 | |
特許 7092038 | 微細相分離パターン形成のための下層膜形成組成物 | 2022年 6月28日 |
206 件中 91-105 件を表示
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7101353 7101356 7100296 7100297 7099327 7099328 7099458 7099466 7096533 7096534 7093058 7093059 7093064 7092036 7092038
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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