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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第452位 81件
(
2018年:第737位 39件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第729位 30件
(
2018年:第533位 47件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-59915 | 表面処理組成物、その製造方法、およびこれを用いた表面処理方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-59921 | 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-62078 | 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-62174 | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-57523 | 表面処理組成物およびこれを用いた表面処理方法 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-57524 | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-57615 | 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-57635 | 研磨用組成物の製造方法 | 2019年 4月11日 | |
| 再表 2017-213051 | 滑走用具及びその製造方法 | 2019年 4月 4日 | |
| 特開 2019-52259 | 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法並びに基板の製造方法 | 2019年 4月 4日 | |
| 特開 2019-50307 | 研磨方法、ならびに研磨用組成物およびその製造方法 | 2019年 3月28日 | |
| 再表 2017-169602 | カチオン変性シリカ原料分散液 | 2019年 2月28日 | |
| 再表 2017-163910 | 研磨用組成物 | 2019年 2月14日 | |
| 再表 2017-169055 | 研磨パッド及び研磨方法 | 2019年 2月14日 | |
| 再表 2017-169808 | 研磨用組成物 | 2019年 2月14日 |
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2019-59915 2019-59921 2019-62078 2019-62174 2019-57523 2019-57524 2019-57615 2019-57635 2017-213051 2019-52259 2019-50307 2017-169602 2017-163910 2017-169055 2017-169808
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