特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社フジミインコーポレーテッド

※ ログインすれば出願人(株式会社フジミインコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第590位　51件（2021年：第542位　61件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第508位　54件（2021年：第536位　44件）

（ランキング更新日：2025年6月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年

株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2022-107328	研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法	2022年 7月21日
特開 2022-98711	研磨用組成物	2022年 7月 4日
特開 2022-92436	溶射材、溶射皮膜、溶射皮膜の形成方法、プラズマエッチング装置用部品	2022年 6月22日
特開 2022-89069	溶射材料、それを用いた溶射方法、溶射皮膜	2022年 6月15日
特開 2022-56706	研磨用組成物	2022年 4月11日
特開 2022-56906	ポリビニルアルコール組成物を含む半導体用濡れ剤の製造方法	2022年 4月11日
特開 2022-57050	アルミナスラリー、アルミナスラリーを含有するウェットブラスト加工用スラリー、及びウェットブラスト加工方法	2022年 4月11日
特開 2022-57432	研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法	2022年 4月11日
特開 2022-57581	研磨用組成物、基板の研磨方法および基板の製造方法	2022年 4月11日
特開 2022-57796	水性組成物、研磨スラリー、および研磨スラリー調製用キット	2022年 4月11日
特開 2022-56348	研磨用組成物およびその製造方法、研磨方法ならびに基板の製造方法	2022年 4月 8日
特開 2022-54189	表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法	2022年 4月 6日
特開 2022-54445	ＣＭＰスラリー	2022年 4月 6日
特開 2022-52548	研磨用組成物	2022年 4月 4日
特開 2022-47860	研磨用組成物、研磨方法、および半導体基板の製造方法	2022年 3月25日

53 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2022-107328 2022-98711 2022-92436 2022-89069 2022-56706 2022-56906 2022-57050 2022-57432 2022-57581 2022-57796 2022-56348 2022-54189 2022-54445 2022-52548 2022-47860

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社フジミインコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数