特許ランキング - 出願人詳細情報 -
ＪＳＲ株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第163位 288件
（
2014年：第170位 269件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第98位 285件
（2014年：第113位 371件）
（ランキング更新日：2020年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5786426 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 9月30日 | |
| 特許 5786445 | アレイ基板、液晶表示素子およびアレイ基板の製造方法 | 2015年 9月30日 | |
| 特許 5786451 | カラーフィルタ、液晶表示素子およびカラーフィルタの製造方法 | 2015年 9月30日 | |
| 特許 5786501 | カラーフィルタ、液晶表示素子およびカラーフィルタの製造方法 | 2015年 9月30日 | |
| 特許 5782257 | 化学機械研磨用水系分散体および該化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット、ならびに化学機械研磨方法 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5782951 | 硬化性組成物及び硬化膜 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5783023 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5783111 | フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5783118 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5783168 | フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5783380 | 液晶配向剤および液晶配向膜の形成方法 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5778686 | 新規共重合体 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5780029 | ポリシロキサン組成物及びパターン形成方法 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5780091 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5780389 | 液晶表示素子の製造方法 | 2015年 9月16日 |
290 件中 61-75 件を表示
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5786426 5786445 5786451 5786501 5782257 5782951 5783023 5783111 5783118 5783168 5783380 5778686 5780029 5780091 5780389
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