特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日本電子株式会社

※ ログインすれば出願人(日本電子株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第737位　41件（2013年：第742位　45件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第635位　50件（2013年：第494位　71件）

（ランキング更新日：2024年9月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

日本電子株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-240770	放射線検出装置および放射線分析装置	2014年12月25日
特開 2014-224793	電子顕微鏡観察用染色剤および電子顕微鏡観察用試料の染色方法	2014年12月 4日
特開 2014-225735	画像処理方法、画像処理装置、撮像装置、およびプログラム	2014年12月 4日
特開 2014-225354	走査荷電粒子顕微鏡、画像取得方法、および電子検出方法	2014年12月 4日
特開 2014-215078	大気圧イオン化方法および大気圧イオン源	2014年11月17日
特開 2014-212063	走査荷電粒子顕微鏡、走査荷電粒子顕微鏡の制御方法、および走査荷電粒子顕微鏡の軸合わせ方法	2014年11月13日
特開 2014-207165	クリーニング装置	2014年10月30日
特開 2014-194982	荷電粒子ビーム偏向装置	2014年10月 9日
特開 2014-192109	試料導入装置および荷電粒子線装置	2014年10月 6日
特開 2014-192108	ホルダー、荷電粒子線装置、および真空装置	2014年10月 6日
特開 2014-182070	質量分析装置	2014年 9月29日
特開 2014-179200	質量分析装置	2014年 9月25日
特開 2014-173864	放射線検出装置および試料分析装置	2014年 9月22日
特開 2014-165239	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2014年 9月 8日
特開 2014-160028	測定容器供給装置	2014年 9月 4日	共同出願

41 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-240770 2014-224793 2014-225735 2014-225354 2014-215078 2014-212063 2014-207165 2014-194982 2014-192109 2014-192108 2014-182070 2014-179200 2014-173864 2014-165239 2014-160028

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日本電子株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数