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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第579位 62件
(2016年:第508位 66件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
(2016年:第446位 64件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6227722 | 銅層を均一にする電気めっき方法 | 2017年11月 8日 | |
特許 6228353 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2017年11月 8日 | |
特許 6228373 | メタルハードマスクの除去のための方法および組成物 | 2017年11月 8日 | |
特許 6228622 | 強靱化アリールシクロブテンポリマー | 2017年11月 8日 | |
特許 6225126 | 新規の樹脂およびこれを含むフォトレジスト組成物 | 2017年11月 1日 | |
特許 6220370 | 光酸発生官能基及び塩基溶解度向上官能基を有する繰り返し単位を含むポリマー、関連フォトレジスト組成物、ならびに電子デバイスを形成する方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6211185 | レベラーとしての窒素含有ポリマー | 2017年10月11日 | |
特許 6204418 | パターン収縮法 | 2017年 9月27日 | |
特許 6199941 | ディスプレイデバイスの製造 | 2017年 9月20日 | |
特許 6185260 | メタルハードマスク組成物 | 2017年 8月23日 | |
特許 6186118 | めっき浴および方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6186225 | ハードマスク | 2017年 8月23日 | |
特許 6186393 | フォトリソグラフィーの組成物および方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6180046 | フォトリソグラフィ方法 | 2017年 8月16日 | |
特許 6178809 | 上塗りフォトレジストと共に使用するのに好適なコーティング組成物 | 2017年 8月 9日 |
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6227722 6228353 6228373 6228622 6225126 6220370 6211185 6204418 6199941 6185260 6186118 6186225 6186393 6180046 6178809
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