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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第579位 62件
(
2016年:第508位 66件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
(
2016年:第446位 64件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6138067 | ノボラック樹脂ブレンドを含むフォトレジスト | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6138179 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6138440 | フォトリソグラフィのための組成物および反射防止コーティング | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6138886 | パターン形成方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6138892 | ホルムアルデヒド不含無電解金属メッキ組成物及び方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140132 | 鉛を含まないスズ合金電気めっき組成物および方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6134367 | フォトレジスト保護膜組成物 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6129242 | めっき方法 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6130099 | ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6130450 | ポリアリーレン材料 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6124955 | 無電解銅めっき組成物 | 2017年 5月10日 | |
| 特許 6120591 | ブロックコポリマーおよびそれに関連する方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6121464 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6122906 | ブロックコポリマーを製造するための方法およびそれから製造される物品 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6118500 | フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2017年 4月19日 |
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6138067 6138179 6138440 6138886 6138892 6140132 6134367 6129242 6130099 6130450 6124955 6120591 6121464 6122906 6118500
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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