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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第579位 62件
(2016年:第508位 66件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
(2016年:第446位 64件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6175245 | めっき浴および方法 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6175479 | 銅電気メッキ用アミノスルホン酸系ポリマー | 2017年 8月 2日 | |
特許 6175480 | シリル化ポリアリーレン | 2017年 8月 2日 | |
特許 6169211 | 鉛を含まないスズ合金電気めっき組成物および方法 | 2017年 7月26日 | |
特許 6166906 | 熱アニーリング方法 | 2017年 7月19日 | |
特許 6166971 | 熱アニーリング方法 | 2017年 7月19日 | |
特許 6158248 | ナノ構造材料の方法および素子 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6155025 | フォトレジストパターントリミング方法 | 2017年 6月28日 | |
特許 6155121 | 高温熱アニーリング方法 | 2017年 6月28日 | |
特許 6141620 | 上塗り組成物およびフォトリソグラフィ方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6141664 | めっき浴および方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6141913 | ギャップ充填方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6141925 | 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト | 2017年 6月 7日 | |
特許 6144005 | 糖成分を含む組成物およびフォトリソグラフィ方法 | 2017年 6月 7日 | |
特許 6144164 | オニウム化合物およびその合成方法 | 2017年 6月 7日 |
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6175245 6175479 6175480 6169211 6166906 6166971 6158248 6155025 6155121 6141620 6141664 6141913 6141925 6144005 6144164
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