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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第516位 62件
(
2016年:第494位 66件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件
(
2016年:第445位 64件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6118500 | フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6111306 | 光酸発生官能基及び塩基溶解度向上官能基を有する繰り返し単位を含むポリマー、関連フォトレジスト組成物、ならびに電子デバイスを形成する方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6108870 | 銀変色を妨げる方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6108832 | フォトレジストパターントリミング方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6108662 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィのための方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6099256 | スズおよびスズ合金のための改良されたフラックス方法 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6092340 | プラスチゾルコーティングされたメッキ治具のための金属化防止剤 | 2017年 3月 8日 | |
| 特許 6085287 | パターン形成方法 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6083921 | 銀−スズ合金の電気めっき浴 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6082187 | 金属コンタクトを形成する改良された方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6081200 | めっき触媒および方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6081199 | めっき触媒および方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6080358 | モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6080357 | ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6076412 | 下地層用の樹脂 | 2017年 2月 8日 |
90 件中 61-75 件を表示
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6118500 6111306 6108870 6108832 6108662 6099256 6092340 6085287 6083921 6082187 6081200 6081199 6080358 6080357 6076412
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