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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第339位 112件
（
2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第225位 132件
（2014年： 0件）
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5836395 | マルチパス光学装置 | 2015年12月24日 | |
| 特許 5837693 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2015年12月24日 | |
| 特許 5833771 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2015年12月16日 | |
| 特許 5828887 | レーザ生成プラズマＥＵＶ光源におけるターゲット材料送出保護のためのシステム及び方法 | 2015年12月 9日 | |
| 特許 5827185 | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5827827 | アクチュエータ | 2015年12月 2日 | |
| 特許 5823040 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2015年11月25日 | |
| 特許 5819993 | ＥＵＶ光源内の光学系洗浄のためのシステム及び方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5820905 | スキャナ | 2015年11月24日 | |
| 特許 5816772 | オーバレイの補正に対するアライメントマークの有用性を決定するための方法、および、リソグラフィ装置とオーバレイ測定システムとの組み合わせ | 2015年11月18日 | |
| 特許 5813190 | 放射検出器 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5813614 | アライメントマーク変形推定方法、基板位置予測方法、アライメントシステムおよびリソグラフィ装置 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815221 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815869 | リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のセットアップ方法、及びデバイス製造方法 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815887 | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびコンピュータプログラム | 2015年11月17日 |
134 件中 1-15 件を表示
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5836395 5837693 5833771 5828887 5827185 5827827 5823040 5819993 5820905 5816772 5813190 5813614 5815221 5815869 5815887
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