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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第850位 32件
（
2014年：第606位 53件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第532位 45件
（
2014年：第644位 49件）
（ランキング更新日：2026年10月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5800292 | レーザ処理装置 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5799306 | 露光装置用光照射装置の制御方法、及び露光方法 | 2015年10月21日 | |
| 特許 5799305 | 露光装置及び露光方法 | 2015年10月21日 | |
| 特許 5799304 | 露光ユニット及びそれを用いた露光方法 | 2015年10月21日 | |
| 特許 5770041 | フォトマスク及び露光装置 | 2015年 8月26日 | |
| 特許 5770014 | フォトマスク及び露光装置 | 2015年 8月26日 | |
| 特許 5768300 | スタンプ作製方法及びスタンプ作製装置 | 2015年 8月26日 | |
| 特許 5762903 | 露光装置 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5760293 | 露光装置 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5760292 | マイクロレンズアレイを使用した露光装置 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5760251 | ガラス基板のレーザ加工装置 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5760250 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5759816 | シール剤の硬化処理装置及び硬化処理方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5748141 | 露光装置 | 2015年 7月15日 | |
| 特許 5747921 | 配向処理装置及び配向処理方法 | 2015年 7月15日 |
46 件中 16-30 件を表示
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5800292 5799306 5799305 5799304 5770041 5770014 5768300 5762903 5760293 5760292 5760251 5760250 5759816 5748141 5747921
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