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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第608位 53件
（
2018年：第755位 38件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第771位 28件
（2018年：第1328位 14件）
（ランキング更新日：2025年6月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6533644 | ビーム整形マスク、レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6529329 | タッチパネル製造方法、タッチパネルのガラス基板及びタッチパネル製造用マスク | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6527408 | 成膜マスクの製造方法及びその製造装置 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6518891 | 搬送装置 | 2019年 5月29日 | |
| 特許 6500204 | 偏光光照射装置 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6500282 | 露光装置及び照明装置 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6484851 | 偏光光照射装置 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6484853 | 露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6485627 | 露光装置及び露光方法 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6476234 | 非接触型回路パターン検査修復装置 | 2019年 2月27日 | |
| 特許 6471379 | 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法及びレーザアニール装置 | 2019年 2月20日 | |
| 特許 6457162 | 高圧放電ランプ及び照明装置 | 2019年 1月23日 | |
| 特許 6446736 | 成膜方法及び成膜装置 | 2019年 1月 9日 | |
| 特許 6447148 | 投影露光装置 | 2019年 1月 9日 |
29 件中 16-29 件を表示
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6533644 6529329 6527408 6518891 6500204 6500282 6484851 6484853 6485627 6476234 6471379 6457162 6446736 6447148
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