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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6052911 | セシウムイオンで酸化物界面を処理することによって高チャネル移動度を有するSiC MOSFETの形成 | 2016年12月27日 | |
特許 6054282 | 高表面品質GaNウェーハおよびその製造方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6050579 | 保護層および低損傷陥凹部を備える窒化物ベースのトランジスタならびにその製作方法 | 2016年12月21日 | |
特許 6041139 | 異なる半導体材料の半導体相互接続層及び半導体チャネル層を備えたトランジスタ | 2016年12月 7日 | |
特許 6025823 | 負べベルにより終端された高阻止電圧を有するSiCデバイス | 2016年11月16日 | |
特許 6014023 | 酸化ニッケルを含むゲートを有する半導体デバイス及びその作製方法 | 2016年10月25日 | |
特許 6008571 | チャネル領域の平滑な表面を有するシリコンカーバイドデバイスを作製する方法 | 2016年10月19日 | |
特許 5997767 | チャンネル移動度を増加させた半導体デバイスを製造するためのウェット・ケミストリー・プロセス | 2016年 9月28日 | |
特許 5989542 | 発光粒子、これを識別する方法、及びこれを含む発光装置 | 2016年 9月 7日 | |
特許 5989612 | 半導体ダイにおけるストレス低減バリア副層の使用 | 2016年 9月 7日 | |
特許 5990204 | 重なったドープ領域を有するショットキーダイオードを含む半導体デバイス及びその製造方法 | 2016年 9月 7日 | |
特許 5990255 | 凹部終端構造及び凹部終端構造を含む電子デバイスを製作する方法 | 2016年 9月 7日 | |
特許 5985495 | コンタクトパッドおよびその製造方法 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5986080 | ベース層上に緩衝層を備える電子デバイス構造 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5982430 | フィールドプレートに接続されたソース領域を有する、ワイドバンドギャップ電界効果トランジスタ | 2016年 8月31日 |
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6052911 6054282 6050579 6041139 6025823 6014023 6008571 5997767 5989542 5989612 5990204 5990255 5985495 5986080 5982430
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