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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第128位 337件
(2015年:第115位 399件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第90位 356件
(2015年:第74位 358件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5950389 | リチウムシリケート系化合物、正極活物質、正極活物質の製造方法、非水電解質二次電池およびそれを搭載した車両 | 2016年 7月13日 | |
特許 5950399 | 有機−無機透明ハイブリッド皮膜とその製造方法 | 2016年 7月13日 | |
特許 5950403 | 遠心式分析チップおよびこれを用いる分析方法 | 2016年 7月13日 | |
特許 5951448 | 概日リズム調整剤 | 2016年 7月13日 | |
特許 5947623 | 抗がん剤の効果増強剤 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5948578 | ダイヤモンドの表面処理方法 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5949347 | n型熱電変換性能を有する金属材料 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5943280 | 金クラスター触媒及びその製造方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5943342 | 概日リズム改善剤 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5943349 | 鉛含有ガラスの表面処理方法及び表面処理装置 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5943369 | 熱伝導積層膜部材及びその製造方法、これを用いた放熱部品及び放熱デバイス | 2016年 7月 5日 | |
特許 5943509 | 炭化珪素基板への成膜方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5943645 | 半導体基板、半導体装置および半導体基板の製造方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5946038 | ヒドラジン化合物からの水素発生方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5946054 | 発光性遷移金属含有アルミナ自立薄膜の製造方法 | 2016年 7月 5日 |
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5950389 5950399 5950403 5951448 5947623 5948578 5949347 5943280 5943342 5943349 5943369 5943509 5943645 5946038 5946054
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