特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日新イオン機器株式会社

※ ログインすれば出願人(日新イオン機器株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第1400位　18件（2011年：第1072位　25件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第1784位　13件（2011年：第2601位　7件）

（ランキング更新日：2026年3月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

日新イオン機器株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2012-238403	イオン注入装置の制御方法	2012年12月 6日
再表 2010-143479	イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法	2012年11月22日	共同出願
特開 2012-221629	イオン源及び反射電極構造体	2012年11月12日
特開 2012-216767	イオン注入方法	2012年11月 8日
特開 2012-199033	イオン注入装置	2012年10月18日
特開 2012-195077	スリット電極及びこれを備えた荷電粒子ビーム発生装置	2012年10月11日
特開 2012-195177	スリット電極及びこれを備えた荷電粒子ビーム発生装置	2012年10月11日
特開 2012-190658	イオン源	2012年10月 4日
特開 2012-185953	イオンビーム照射方法とその装置	2012年 9月27日
特開 2012-160386	イオン注入方法およびイオン注入装置	2012年 8月23日
特開 2012-146424	イオン源	2012年 8月 2日
特開 2012-99298	イオン注入装置	2012年 5月24日
特開 2012-84624	プラズマ発生装置	2012年 4月26日
特開 2012-69509	プラズマ発生装置	2012年 4月 5日
特開 2012-59448	イオン注入方法及びイオン注入装置	2012年 3月22日

18 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-238403 2010-143479 2012-221629 2012-216767 2012-199033 2012-195077 2012-195177 2012-190658 2012-185953 2012-160386 2012-146424 2012-99298 2012-84624 2012-69509 2012-59448

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日新イオン機器株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数