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日新イオン機器株式会社

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日新イオン機器株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2012-238403	イオン注入装置の制御方法	2012年12月 6日
再表 2010-143479	イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法	2012年11月22日	共同出願
特開 2012-221629	イオン源及び反射電極構造体	2012年11月12日
特開 2012-216767	イオン注入方法	2012年11月 8日
特開 2012-199033	イオン注入装置	2012年10月18日
特開 2012-195077	スリット電極及びこれを備えた荷電粒子ビーム発生装置	2012年10月11日
特開 2012-195177	スリット電極及びこれを備えた荷電粒子ビーム発生装置	2012年10月11日
特開 2012-190658	イオン源	2012年10月 4日
特開 2012-185953	イオンビーム照射方法とその装置	2012年 9月27日
特開 2012-160386	イオン注入方法およびイオン注入装置	2012年 8月23日
特開 2012-146424	イオン源	2012年 8月 2日
特開 2012-99298	イオン注入装置	2012年 5月24日
特開 2012-84624	プラズマ発生装置	2012年 4月26日
特開 2012-69509	プラズマ発生装置	2012年 4月 5日
特開 2012-59448	イオン注入方法及びイオン注入装置	2012年 3月22日

18 件中 1-15 件を表示

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2012-238403 2010-143479 2012-221629 2012-216767 2012-199033 2012-195077 2012-195177 2012-190658 2012-185953 2012-160386 2012-146424 2012-99298 2012-84624 2012-69509 2012-59448

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