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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1715位 15件
(2012年: 0件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2956位 6件
(2012年: 0件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-206981 | シリコンウェーハ | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-199387 | 単結晶引上装置及び単結晶引上方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-201303 | シリコンウェーハの製造方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-201314 | シリコンウェーハの製造方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-201320 | シリコンウェーハ | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-163597 | シリコンウェーハの製造方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-163598 | シリコンウェーハの製造方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-139350 | シリコン単結晶の製造方法 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-136486 | シリコン単結晶の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
特開 2013-89783 | シリコンウェーハの製造方法 | 2013年 5月13日 | |
特開 2013-84869 | シリコンウェーハの清浄化方法及びそれを用いたシリコンウェーハの製造方法 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-84920 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2013年 5月 9日 | |
特開 2013-77770 | 接合ウェーハの製造方法 | 2013年 4月25日 | |
特開 2013-75785 | 単結晶引上装置の輻射シールド | 2013年 4月25日 | |
特開 2013-74139 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2013年 4月22日 |
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2013-206981 2013-199387 2013-201303 2013-201314 2013-201320 2013-163597 2013-163598 2013-139350 2013-136486 2013-89783 2013-84869 2013-84920 2013-77770 2013-75785 2013-74139
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