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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第2480位 8件
（
2014年：第4165位 4件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2775位 5件
（
2014年：第959位 30件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-222801 | 検量線の作成方法、不純物濃度の測定方法、及び半導体ウェハの製造方法 | 2015年12月10日 | |
| 特開 2015-205793 | 単結晶引き上げ方法 | 2015年11月19日 | |
| 特開 2015-204326 | シリコンウェーハの熱処理方法、及びシリコンウェーハ | 2015年11月16日 | |
| 特開 2015-140270 | シリコンウェーハ | 2015年 8月 3日 | |
| 特開 2015-73049 | シリコンウェーハの評価方法 | 2015年 4月16日 | |
| 特開 2015-32810 | シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2015年 2月16日 | |
| 特開 2015-26755 | シリコンウェーハの抵抗率測定方法 | 2015年 2月 5日 | |
| 特開 2015-17019 | シリコン単結晶及びその製造方法 | 2015年 1月29日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2015-222801 2015-205793 2015-204326 2015-140270 2015-73049 2015-32810 2015-26755 2015-17019
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