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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2815位 7件
（
2018年：第2731位 7件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第3977位 3件
（2018年：第2192位 7件）
（ランキング更新日：2025年6月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-192831 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2019年10月31日 | |
| 特開 2019-123656 | シリコン単結晶の製造方法 | 2019年 7月25日 | |
| 特開 2019-114633 | 金属汚染評価方法 | 2019年 7月11日 | |
| 特開 2019-114665 | シリコンウェーハの評価方法 | 2019年 7月11日 | |
| 特開 2019-87653 | 誘電体膜の電気伝導率測定装置 | 2019年 6月 6日 | |
| 特開 2019-87654 | 界面準位密度測定装置 | 2019年 6月 6日 | |
| 特開 2019-29387 | シリコンウェーハの抵抗率測定方法 | 2019年 2月21日 |
7 件中 1-7 件を表示
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2019-192831 2019-123656 2019-114633 2019-114665 2019-87653 2019-87654 2019-29387
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