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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第2007位 11件
(2021年:第1489位 16件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第1763位 11件
(2021年:第1853位 9件)
(ランキング更新日:2025年5月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2022-186036 | シリコン単結晶の製造方法 | 2022年12月15日 | |
特開 2022-135030 | シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2022年 9月15日 | |
特開 2022-129531 | シリコンウェーハの製造方法およびシリコンウェーハ | 2022年 9月 6日 | |
特開 2022-127060 | シリコンウェーハ及びそれを用いた積層ウェーハの製造方法 | 2022年 8月31日 | |
特開 2022-92506 | 半導体単結晶の製造方法および半導体単結晶の製造装置 | 2022年 6月22日 | |
特開 2022-73176 | 酸素濃度予測システムおよび酸素濃度制御システム | 2022年 5月17日 | |
特開 2022-50070 | シリコンウェーハの製造方法 | 2022年 3月30日 | |
特開 2022-50071 | シリコンウェーハおよびシリコンウェーハの製造方法 | 2022年 3月30日 | |
特開 2022-35324 | シリコンウェーハの貼付装置および貼付方法 | 2022年 3月 4日 | |
特開 2022-14212 | シリコン基板及びその製造方法 | 2022年 1月19日 | |
特開 2022-6418 | シリコンウェーハ、及び、シリコンウェーハの製造方法 | 2022年 1月13日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2022-186036 2022-135030 2022-129531 2022-127060 2022-92506 2022-73176 2022-50070 2022-50071 2022-35324 2022-14212 2022-6418
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