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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2731位 7件
（
2017年：第3286位 6件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2192位 7件
（2017年：第8798位 1件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-190903 | 半導体ウェハの製造方法及び半導体ウェハ | 2018年11月29日 | |
| 特開 2018-184318 | シリコン単結晶の製造方法 | 2018年11月22日 | |
| 特開 2018-141188 | シリコンウェーハの平坦化処理方法 | 2018年 9月13日 | |
| 特開 2018-137257 | スクラブ洗浄方法およびスクラブ洗浄装置 | 2018年 8月30日 | |
| 特開 2018-129460 | 検量線の作成方法、炭素濃度測定方法及びシリコンウェハの製造方法 | 2018年 8月16日 | |
| 特開 2018-113320 | シリコンウェーハの熱処理方法およびシリコンウェーハ | 2018年 7月19日 | |
| 特開 2018-39702 | シリコン単結晶の製造方法及び改質処理後のシリコン単結晶製造用石英ルツボ | 2018年 3月15日 |
7 件中 1-7 件を表示
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2018-190903 2018-184318 2018-141188 2018-137257 2018-129460 2018-113320 2018-39702
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