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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1654位 13件
（
2024年：第2215位 9件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1629位 11件
（2024年：第2757位 6件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7784996 | 誘電体ＣＭＰのための組成物及び方法 | 2025年12月12日 | |
| 特許 7775213 | 新規の研磨剤を含むＣＭＰ組成物 | 2025年11月25日 | |
| 特許 7757279 | 誘電体ＣＭＰのための組成物及び方法 | 2025年10月21日 | |
| 特許 7744422 | ポリマーシェルを備えたポロゲンを有する化学機械研磨サブパッド | 2025年 9月25日 | |
| 特許 7710434 | ポリアミンおよびシクロヘキサンジメタノール硬化剤を使用した研磨パッド | 2025年 7月18日 | |
| 特許 7686617 | バルクタングステンスラリーにおけるバリア膜の除去速度を増加させる方法 | 2025年 6月 2日 | |
| 特許 7670722 | 誘導体化ポリアミノ酸 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7669282 | ＣＭＰスラリーの粒子分散を改善するための添加剤 | 2025年 4月28日 | |
| 特許 7649739 | 窒化ケイ素ＣＭＰのための組成物および方法 | 2025年 3月21日 | |
| 特許 7611246 | 自動停止研磨組成物及び方法 | 2025年 1月 9日 | |
| 特許 7608623 | 制御されたテクスチャ面を有するエンドポイント窓 | 2025年 1月 6日 |
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7784996 7775213 7757279 7744422 7710434 7686617 7670722 7669282 7649739 7611246 7608623
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