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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第177位 270件
（
2018年：第194位 224件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第110位 254件
（2018年：第121位 246件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6542133 | 自動分析装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6542893 | 分注装置及び自動分析装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6543532 | 自動分析装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6543537 | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6537422 | 自動分析装置および自動分析装置における試料分注方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539109 | 荷電粒子線装置及び試料昇降装置 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539113 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539367 | 自動分析装置の反応容器 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539779 | 荷電粒子顕微鏡および試料撮像方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6535811 | 荷電粒子線装置 | 2019年 6月26日 | |
| 特許 6532425 | 磁界計測装置、磁界計測方法、磁界計測プログラム | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6532486 | 液面検査装置、自動分析装置および処理装置 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6533312 | 試料ホルダ、イオンミリング装置、試料加工方法、試料観察方法、及び試料加工・観察方法 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6529591 | 発光分析用検出装置および自動分析装置 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6529920 | 電界放出電子源、その製造方法および電子線装置 | 2019年 6月12日 |
255 件中 121-135 件を表示
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6542133 6542893 6543532 6543537 6537422 6539109 6539113 6539367 6539779 6535811 6532425 6532486 6533312 6529591 6529920
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