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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第126位 332件
（
2020年：第191位 225件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第118位 240件
（2020年：第127位 223件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6959969 | 荷電粒子線装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6959999 | プラズマ処理方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960050 | プラズマ処理装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960062 | プラズマ処理装置の部品の製造方法及び部品の検査方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960352 | ステージ装置、及び荷電粒子線装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960737 | 真空処理装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960830 | 真空処理装置および真空処理装置の運転方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6963097 | プラズマ処理方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6956848 | 自動分析装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6957633 | 評価用半導体基板およびそれを用いた検査装置の欠陥検出感度評価方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6957641 | 荷電粒子線装置およびそれを用いた試料観察方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959121 | 孔形成方法及び孔形成装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959330 | 核酸増幅方法および核酸解析用装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6953635 | 荷電粒子銃及び荷電粒子線装置 | 2021年10月27日 | |
| 特許 6954783 | 自動分析システム | 2021年10月27日 |
241 件中 31-45 件を表示
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6959969 6959999 6960050 6960062 6960352 6960737 6960830 6963097 6956848 6957633 6957641 6959121 6959330 6953635 6954783
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