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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1420位 17件
(
2020年:第3088位 6件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1475位 12件
(
2020年:第1550位 11件)
(ランキング更新日:2026年2月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6977199 | プラズマ処理用ガス、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6979094 | コンピュータプログラム、半導体製造装置、基板昇降装置及び半導体製造方法 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6970774 | 携帯端末、方法及びプログラム | 2021年11月24日 | |
| 特許 6970858 | 保守支援システム、保守支援方法、プログラム及び加工画像の生成方法 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6934726 | スパッタエッチング用マスク、スパッタエッチング方法及びスパッタエッチング装置 | 2021年 9月15日 | |
| 特許 6929021 | シリコン酸化膜の製造方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6915073 | プラズマ着火方法及びプラズマ生成装置 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6865727 | SiGe層のエッチング方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6837603 | 支援システム、支援方法及びプログラム | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6824029 | 防着筒及びこれを備えた基板処理装置 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6824074 | エッチング方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6812237 | プラズマ処理装置 | 2021年 1月13日 |
12 件中 1-12 件を表示
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6977199 6979094 6970774 6970858 6934726 6929021 6915073 6865727 6837603 6824029 6824074 6812237
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