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東京応化工業株式会社
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（
2018年：第287位 137件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第234位 117件
（
2018年：第245位 119件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6511071 | 硬化性組成物 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6513899 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6514546 | 感光性樹脂組成物 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6514578 | エッチング組成物及び伝導膜の製造方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6515140 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6507213 | 化合物 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6503206 | レジストパターン修復方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6491865 | 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6486161 | シリル化剤薬液の調製方法及び表面処理方法 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6486266 | ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6486652 | リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6482286 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6482342 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、光反応性クエンチャー及び化合物 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6482344 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6483397 | レジストパターン形成方法 | 2019年 3月13日 |
118 件中 76-90 件を表示
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6511071 6513899 6514546 6514578 6515140 6507213 6503206 6491865 6486161 6486266 6486652 6482286 6482342 6482344 6483397
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