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東京応化工業株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第337位 116件
（
2018年：第287位 137件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第234位 117件
（
2018年：第245位 119件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6600253 | イメージセンサ用永久接着剤組成物、並びにそれを用いた接着方法及び積層体 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6600472 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6600566 | 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6594049 | レジストパターン形成方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6596196 | 多孔質膜製造用ワニスの製造方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6596223 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6596257 | 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6596353 | 貼付装置、貼付システム、及び貼付方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6588150 | 半導体基板又は装置の洗浄液及び洗浄方法 | 2019年10月 9日 | |
| 特許 6586303 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び光反応性クエンチャー | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6579892 | 硬化性組成物 | 2019年 9月25日 | |
| 特許 6581802 | 相分離構造を含む構造体の製造方法、ブロックコポリマー組成物 | 2019年 9月25日 | |
| 特許 6581811 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年 9月25日 | |
| 特許 6574621 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6568762 | レジストパターンのトリミング方法 | 2019年 8月28日 |
118 件中 31-45 件を表示
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6600253 6600472 6600566 6594049 6596196 6596223 6596257 6596353 6588150 6586303 6579892 6581802 6581811 6574621 6568762
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