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東京応化工業株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第337位 116件
（
2018年：第287位 137件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第234位 117件
（
2018年：第245位 119件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6539499 | レジストパターン形成方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539655 | 多孔性のイミド系樹脂膜製造システム、及び多孔性のイミド系樹脂膜製造方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539656 | イミド系樹脂膜製造システム及びイミド系樹脂膜製造方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539710 | 化合物及び高分子化合物 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539760 | 化合物 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6535226 | ガラス加工方法、ガラスエッチング液、及びガラス基板 | 2019年 6月26日 | |
| 特許 6533443 | 半導体基板の製造方法 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6530907 | 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6523780 | 膜形成性組成物、及びそれを用いた硬化被膜の製造方法 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6522130 | ポリイミド前駆体組成物 | 2019年 5月29日 | |
| 特許 6523100 | 清掃部材、塗布装置及び塗布方法 | 2019年 5月29日 | |
| 特許 6516459 | 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6516595 | 組成物及びこれを用いて得られる膜 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6518475 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6518548 | 紫外線照射装置、レジストパターン形成装置、紫外線照射方法及びレジストパターン形成方法 | 2019年 5月22日 |
118 件中 61-75 件を表示
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6539499 6539655 6539656 6539710 6539760 6535226 6533443 6530907 6523780 6522130 6523100 6516459 6516595 6518475 6518548
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