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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第54位 656件
(
2020年:第63位 593件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第76位 336件
(
2020年:第72位 354件)
(ランキング更新日:2025年10月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6888723 | リチウムイオン二次電池用負極材、リチウムイオン二次電池用負極材の製造方法、リチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池 | 2021年 6月16日 | |
| 特許 6888744 | スラリ及び研磨方法 | 2021年 6月16日 | |
| 特許 6888746 | 電子部品パッケージの製造方法 | 2021年 6月16日 | |
| 特許 6888749 | 電子部品装置を製造する方法 | 2021年 6月16日 | |
| 特許 6883230 | リチウムイオン二次電池用材料、正極合材、リチウムイオン二次電池用正極及びリチウムイオン二次電池 | 2021年 6月 9日 | |
| 特許 6885000 | 半導体再配線層形成用樹脂フィルム、半導体再配線層形成用複合フィルム、それらを用いた半導体装置及び半導体装置の製造方法 | 2021年 6月 9日 | |
| 特許 6885001 | プリプレグ、積層板及びプリント配線板 | 2021年 6月 9日 | |
| 特許 6878772 | 研磨剤、研磨剤用貯蔵液及び研磨方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6878783 | 研磨剤、研磨剤用貯蔵液及び研磨方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6879082 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6879202 | 研磨剤、研磨剤用貯蔵液及び研磨方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6879303 | 異なる二種類の構造単位を有する芳香族ポリケトン | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6879343 | 抽出装置及び抽出方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6879348 | 感光性エレメント、積層体、永久マスクレジスト及びその製造方法並びに半導体パッケージの製造方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6880449 | パレット搬送装置 | 2021年 6月 2日 |
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6888723 6888744 6888746 6888749 6883230 6885000 6885001 6878772 6878783 6879082 6879202 6879303 6879343 6879348 6880449
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10月30日(木) - 大阪 大阪市
10月30日(木) - 愛知 名古屋市
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10月30日(木) -
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11月4日(火) - 大阪 大阪市
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11月5日(水) -
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11月6日(木) - 大阪 大阪市
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11月7日(金) -
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