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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第621位 55件
(2010年:第1125位 27件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第785位 36件
(2010年:第922位 25件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-186432 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-178988 | 感光性組成物 | 2011年 9月15日 | |
特開 2011-175241 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-175270 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-173863 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-173865 | スルホニル光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-167680 | 一定濃度の蒸発のための方法およびその方法を使用する装置 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-138165 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-139023 | 半導体基体のテクスチャ化 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-127219 | 耐久性物品の製造方法 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-123517 | 浸漬リソグラフィ用の組成物及びプロセス | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-122150 | 第3A族インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-122236 | 抗置換硬質金組成物 | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-124546 | 半導体ウェハを清浄化しマイクロエッチングする方法 | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-106026 | 有機金属化合物 | 2011年 6月 2日 |
55 件中 16-30 件を表示
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2011-186432 2011-178988 2011-175241 2011-175270 2011-173863 2011-173865 2011-167680 2011-138165 2011-139023 2011-127219 2011-123517 2011-122150 2011-122236 2011-124546 2011-106026
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月27日(木) - 東京 港区
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