特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ホーム > 特許ランキング > ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. > 2012年 > 出願公開一覧

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

※ ログインすれば出願人(ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.)をリストに登録できます。ログインについて

  2012年 出願公開件数ランキング    第570位 60件 上昇2011年:第621位 55件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第926位 32件 下降2011年:第785位 36件)

(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年  2013年  2014年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年  2021年  2022年  2023年  2024年  2025年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-135813 フラックス組成物およびはんだ付け方法 2012年 7月19日
特開 2012-135815 ポリアミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 2012年 7月19日
特開 2012-135814 硬化性アミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 2012年 7月19日 共同出願
特開 2012-131988 ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 2012年 7月12日 共同出願
特開 2012-130910 めっき触媒及び方法 2012年 7月12日
特開 2012-126999 半導体の電気化学エッチング 2012年 7月 5日
特開 2012-128455 フォトリソグラフィ用コーティング組成物 2012年 7月 5日
特開 2012-127002 めっき触媒及び方法 2012年 7月 5日
特開 2012-128447 フォトリソグラフィーの組成物および方法 2012年 7月 5日
特開 2012-127003 銅層を均一にする電気めっき方法 2012年 7月 5日
特開 2012-117063 硬化性フラックス組成物およびはんだ付け方法 2012年 6月21日
特開 2012-113303 糖成分を含む組成物およびフォトリソグラフィ方法 2012年 6月14日
特開 2012-111753 ラクトン光酸発生剤、これを含む樹脂およびフォトレジスト 2012年 6月14日
特開 2012-113302 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法 2012年 6月14日 共同出願
特開 2012-107327 無電解めっきのための安定なナノ粒子 2012年 6月 7日

60 件中 31-45 件を表示

をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-135813 2012-135815 2012-135814 2012-131988 2012-130910 2012-126999 2012-128455 2012-127002 2012-128447 2012-127003 2012-117063 2012-113303 2012-111753 2012-113302 2012-107327

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

  • このサイトをYahoo!ブックマークに登録
  • はてなブックマークに追加

特許ランキング

2025年 特許出願件数2025年 特許取得件数
2024年 特許出願件数2024年 特許取得件数
2023年 特許出願件数2023年 特許取得件数
2022年 特許出願件数2022年 特許取得件数
2021年 特許出願件数2021年 特許取得件数
2020年 特許出願件数2020年 特許取得件数
2019年 特許出願件数2019年 特許取得件数
2018年 特許出願件数2018年 特許取得件数
2017年 特許出願件数2017年 特許取得件数
2016年 特許出願件数2016年 特許取得件数
2015年 特許出願件数2015年 特許取得件数
2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2011年 特許出願件数2011年 特許取得件数
出願人を検索

来週の知財セミナー (2月3日~2月9日)

2月4日(火) - 東京 港区

特許情報検索入門

2月5日(水) - 東京 港区

はじめての特許分析Ⅰ

2月6日(木) - 東京 港区

はじめての特許分析Ⅱ

特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介

角田特許事務所

〒130-0022 東京都墨田区江東橋4-24-5 協新ビル402 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

加藤特許事務所

福岡市博多区博多駅前3丁目25番21号  博多駅前ビジネスセンター411号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

矢野特許事務所

京都市伏見区深草大亀谷万帖敷町446-2 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング