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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第570位 60件 (2011年:第621位 55件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第926位 32件 (2011年:第785位 36件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-135813 | フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-135815 | ポリアミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-135814 | 硬化性アミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2012年 7月19日 | 共同出願 |
特開 2012-131988 | ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2012年 7月12日 | 共同出願 |
特開 2012-130910 | めっき触媒及び方法 | 2012年 7月12日 | |
特開 2012-126999 | 半導体の電気化学エッチング | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-128455 | フォトリソグラフィ用コーティング組成物 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-127002 | めっき触媒及び方法 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-128447 | フォトリソグラフィーの組成物および方法 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-127003 | 銅層を均一にする電気めっき方法 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-117063 | 硬化性フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2012年 6月21日 | |
特開 2012-113303 | 糖成分を含む組成物およびフォトリソグラフィ方法 | 2012年 6月14日 | |
特開 2012-111753 | ラクトン光酸発生剤、これを含む樹脂およびフォトレジスト | 2012年 6月14日 | |
特開 2012-113302 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法 | 2012年 6月14日 | 共同出願 |
特開 2012-107327 | 無電解めっきのための安定なナノ粒子 | 2012年 6月 7日 |
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2012-135813 2012-135815 2012-135814 2012-131988 2012-130910 2012-126999 2012-128455 2012-127002 2012-128447 2012-127003 2012-117063 2012-113303 2012-111753 2012-113302 2012-107327
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
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2月7日(金) -