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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第986位 28件 (2013年:第918位 34件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1392位 18件 (2013年:第2127位 10件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5645335 | FIBパターニングを改良するためのパターン変更方式 | 2014年12月24日 | |
特許 5635645 | ビームシステムのビームカラムを傾動する装置並びにビームシステム | 2014年12月 3日 | |
特許 5628882 | S/TEMのサンプルを作成する方法およびサンプル構造 | 2014年11月19日 | |
特許 5611586 | 小型の走査型電子顕微鏡 | 2014年10月22日 | |
特許 5599958 | 複数の検出器を備える切り替え可能な顕微鏡装置 | 2014年10月 1日 | |
特許 5600371 | 荷電粒子ビーム処理のための保護層のスパッタリング・コーティング | 2014年10月 1日 | |
特許 5591550 | 高選択性、低損傷の電子ビーム・デリニエーション・エッチング | 2014年 9月17日 | |
特許 5586118 | 荷電粒子ビームシステムの操作方法 | 2014年 9月10日 | |
特許 5571355 | ガス増幅を使用した走査透過電子顕微鏡 | 2014年 8月13日 | |
特許 5523651 | 局部的プラズマ処理 | 2014年 6月18日 | |
特許 5498655 | クラスタ源を使用する荷電粒子ビーム処理 | 2014年 5月21日 | |
特許 5492364 | 3次元基準マーク | 2014年 5月14日 | |
特許 5485209 | ビームシステムのビームカラムを傾動する方法 | 2014年 5月 7日 | |
特許 5441242 | ビーム加工のための改善されたビーム位置決め | 2014年 3月12日 | |
特許 5432220 | 二重ビーム装置 | 2014年 3月 5日 |
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5645335 5635645 5628882 5611586 5599958 5600371 5591550 5586118 5571355 5523651 5498655 5492364 5485209 5441242 5432220
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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