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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-181631 表面活性化方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び表面活性化装置 2011年 9月15日
特開 2011-176125 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 2011年 9月 8日
特開 2011-174140 成膜方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2011年 9月 8日
特開 2011-174757 欠陥検査方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び欠陥検査装置 2011年 9月 8日
特開 2011-176169 基板のエッチング方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2011年 9月 8日
特開 2011-173184 研磨方法 2011年 9月 8日
特開 2011-174856 クロマトグラフィー用カラム、その製造方法、および分析装置 2011年 9月 8日 共同出願
特開 2011-176361 平行平板型ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 2011年 9月 8日
特開 2011-176066 処理装置 2011年 9月 8日
特開 2011-176117 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2011年 9月 8日
特開 2011-176086 塗布装置 2011年 9月 8日
特開 2011-174108 冷却装置及びその冷却装置を備えた基板処理装置 2011年 9月 8日
特開 2011-176170 基板の表面改質方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2011年 9月 8日
特開 2011-174540 真空排気用のボールバルブ及び真空排気装置 2011年 9月 8日
特開 2011-176365 化学的酸化物除去(ChemicalOxideRemoval)処理システム及び方法 2011年 9月 8日

621 件中 166-180 件を表示

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2011-181631 2011-176125 2011-174140 2011-174757 2011-176169 2011-173184 2011-174856 2011-176361 2011-176066 2011-176117 2011-176086 2011-174108 2011-176170 2011-174540 2011-176365

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