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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-167612 スリットノズル清掃装置および塗布装置 2011年 9月 1日
特開 2011-171364 インプリント方法 2011年 9月 1日
特開 2011-171559 マンガン含有低誘電率膜及びその製造方法、半導体装置の製造方法並びに成膜装置 2011年 9月 1日
特開 2011-171763 電極アッセンブリ及びプラズマ処理装置 2011年 9月 1日
特開 2011-167603 塗布方法及び塗布装置 2011年 9月 1日
特開 2011-171153 カバー固定具及び誘導結合プラズマ処理装置 2011年 9月 1日
特開 2011-166087 現像装置、現像方法及び記憶媒体 2011年 8月25日
特開 2011-165693 熱処理装置、塗布現像処理システム、熱処理方法、塗布現像処理方法及びその熱処理方法又は塗布現像処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 2011年 8月25日
特開 2011-165995 プローブカードの搬送機構、プローブカードの搬送方法及びプローブ装置 2011年 8月25日
特開 2011-166107 保持体機構、ロードロック装置、処理装置及び搬送機構 2011年 8月25日
特開 2011-166186 液処理装置 2011年 8月25日
特開 2011-166083 基板処理装置及びロードロック装置 2011年 8月25日
特開 2011-165891 載置台構造及び処理装置 2011年 8月25日
特開 2011-166086 現像装置、現像方法及び記憶媒体 2011年 8月25日
特開 2011-165769 半導体装置の製造方法及びプラズマエッチング装置 2011年 8月25日

621 件中 196-210 件を表示

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2011-167612 2011-171364 2011-171559 2011-171763 2011-167603 2011-171153 2011-166087 2011-165693 2011-165995 2011-166107 2011-166186 2011-166083 2011-165891 2011-166086 2011-165769

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