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東京エレクトロン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第60位 712件 下降2012年:第53位 714件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第45位 796件 下降2012年:第37位 902件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-179352 熱処理装置の運転方法 2013年 9月 9日
特開 2013-179329 針先位置検出装置及びプローブ装置 2013年 9月 9日
特開 2013-179308 基板搬送装置 2013年 9月 9日
再表 2012-11480 層間絶縁層形成方法 2013年 9月 9日
特開 2013-179252 基板処理ブラシ及び基板処理装置並びに基板処理方法 2013年 9月 9日
特開 2013-179257 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2013年 9月 9日
特開 2013-179156 基板処理装置 2013年 9月 9日
特開 2013-175740 載置台機構及びこれを用いたプラズマ処理装置 2013年 9月 5日
特開 2013-175552 処理液交換方法および基板処理装置 2013年 9月 5日
特開 2013-175573 基板載置台及びプラズマエッチング装置 2013年 9月 5日
特開 2013-175677 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 2013年 9月 5日
特開 2013-175702 半導体装置の製造方法 2013年 9月 5日
特開 2013-175514 冷却システム、冷却システムを備える基板処理装置及び冷却方法 2013年 9月 5日
特開 2013-175640 基板の表面改質方法、コンピュータ記憶媒体及び基板の表面改質装置 2013年 9月 5日
特表 2013-534712 プラズマドーピング装置、プラズマドーピング方法、半導体素子の製造方法、および半導体素子 2013年 9月 5日

712 件中 196-210 件を表示

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2013-179352 2013-179329 2013-179308 2012-11480 2013-179252 2013-179257 2013-179156 2013-175740 2013-175552 2013-175573 2013-175677 2013-175702 2013-175514 2013-175640 2013-534712

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