特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-236060	冷却システム、冷却方法、および基板処理装置	2014年12月15日	共同出願
特開 2014-236192	酸化マンガン膜の形成方法	2014年12月15日
特開 2014-231043	塗布装置および封止部の洗浄方法	2014年12月11日
特開 2014-232894	液処理装置	2014年12月11日
特開 2014-231454	グラフェンの生成方法	2014年12月11日
特開 2014-232689	欠陥検査装置及び欠陥検査方法	2014年12月11日	共同出願
特開 2014-232884	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法並びにこれを実施するためのプログラムを記憶する記憶媒体	2014年12月11日
特開 2014-231455	グラフェンの生成方法	2014年12月11日
特開 2014-231986	ガス検知システム	2014年12月11日
特開 2014-229857	トレンチを充填する方法及び処理装置	2014年12月 8日
特開 2014-229734	エッチング方法及びエッチング装置	2014年12月 8日
特開 2014-227556	基板の処理方法及びテンプレート	2014年12月 8日
特開 2014-229861	回転可能状態検出装置及び回転可能状態検出方法、並びにこれを用いた基板処理装置及び基板処理方法	2014年12月 8日
特開 2014-229426	プラズマ処理装置	2014年12月 8日
特開 2014-229715	基板処理装置及び基板処理方法	2014年12月 8日

685 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-236060 2014-236192 2014-231043 2014-232894 2014-231454 2014-232689 2014-232884 2014-231455 2014-231986 2014-229857 2014-229734 2014-227556 2014-229861 2014-229426 2014-229715

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数