特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第62位　621件（2010年：第57位　692件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第41位　739件（2010年：第39位　580件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-124342	基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2011年 6月23日
特開 2011-121775	基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2011年 6月23日
特開 2011-124384	成膜装置	2011年 6月23日
特開 2011-124343	基板処理装置、基板処理方法及びこの基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2011年 6月23日
再表 2009-104589	プローブ支持板の製造方法、コンピュータ記憶媒体及びプローブ支持板	2011年 6月23日
特開 2011-124362	プラズマ処理装置	2011年 6月23日
特開 2011-124353	基板の処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2011年 6月23日
特開 2011-124352	現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2011年 6月23日
特開 2011-124313	基板処理システム、基板処理装置、基板処理方法及び基板処理プログラムを記録した記録媒体	2011年 6月23日
特表 2011-518408	単色中性ビームで活性化される化学プロセスシステム及び当該システムの使用方法	2011年 6月23日
再表 2009-104620	成膜方法および記憶媒体	2011年 6月23日	共同出願
特開 2011-124377	静電チャック装置	2011年 6月23日	共同出願
特開 2011-124240	ＭＯＳ型半導体メモリ装置、その製造方法およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2011年 6月23日	共同出願
再表 2009-104621	Ｓｒ−Ｔｉ−Ｏ系膜の成膜方法および記憶媒体	2011年 6月23日	共同出願
特開 2011-117054	プラズマ処理装置用のアルミナ部材及びプラズマ処理装置用のアルミナ部材の製造方法	2011年 6月16日	共同出願

621 件中 286-300 件を表示

... 20

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-124342 2011-121775 2011-124384 2011-124343 2009-104589 2011-124362 2011-124353 2011-124352 2011-124313 2011-518408 2009-104620 2011-124377 2011-124240 2009-104621 2011-117054

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数