特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年7月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-149844	パーティクル低減方法	2013年 8月 1日
特開 2013-149790	プラズマ処理装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149728	成膜装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149377	プラズマ処理装置	2013年 8月 1日
特開 2013-147708	ＴｉＳｉＮ膜の成膜方法および記憶媒体	2013年 8月 1日
特開 2013-147704	マグネトロンスパッタ装置及び成膜方法	2013年 8月 1日
特開 2013-148417	半導体デバイスの検査装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149935	離脱制御方法及びプラズマ処理装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149915	エッチング方法及びエッチング装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149865	プラズマ処理装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149722	基板処理装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149658	剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム	2013年 8月 1日
特開 2013-149657	剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム	2013年 8月 1日
特開 2013-149656	剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム	2013年 8月 1日
特開 2013-150119	デジタル／アナログコンバータ	2013年 8月 1日

712 件中 286-300 件を表示

... 20

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-149844 2013-149790 2013-149728 2013-149377 2013-147708 2013-147704 2013-148417 2013-149935 2013-149915 2013-149865 2013-149722 2013-149658 2013-149657 2013-149656 2013-150119

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数