特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年5月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-120489	基板液処理装置及び基板液処理方法	2014年 6月30日
特開 2014-120522	搬送基台及び搬送システム	2014年 6月30日	共同出願
特開 2014-116576	成膜装置、低誘電率膜を形成する方法、ＳｉＣＯ膜、及びダマシン配線構造	2014年 6月26日	共同出願
特開 2014-116578	誘導結合プラズマ処理装置	2014年 6月26日
特開 2014-116517	金属化合物膜の成膜方法、成膜装置、電子製品の製造方法および電子製品	2014年 6月26日
特開 2014-116484	基板処理装置および処理容器内圧力調整方法	2014年 6月26日
特開 2014-115245	基板の欠陥検査方法、基板の欠陥検査装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 6月26日
特開 2014-115140	基板の基準画像作成方法、基板の欠陥検査方法、基板の基準画像作成装置、基板の欠陥検査ユニット、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 6月26日
特開 2014-116567	プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置	2014年 6月26日
特開 2014-116566	静電チャックの改質方法及びプラズマ処理装置	2014年 6月26日
特開 2014-116545	基板処理装置	2014年 6月26日
特開 2014-116464	基板処理装置、基板処理システム及び搬送容器の異常検出方法	2014年 6月26日
特開 2014-116426	基板処理装置、基板装置の運用方法及び記憶媒体	2014年 6月26日
特開 2014-116187	マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置	2014年 6月26日
特開 2014-112690	基板処理装置及び薬液供給方法	2014年 6月19日

685 件中 316-330 件を表示

... 22

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-120489 2014-120522 2014-116576 2014-116578 2014-116517 2014-116484 2014-115245 2014-115140 2014-116567 2014-116566 2014-116545 2014-116464 2014-116426 2014-116187 2014-112690

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数