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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-103489	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2011年 5月26日
特開 2011-103274	プラズマ処理装置およびマイクロ波伝播体	2011年 5月26日
再表 2009-99186	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2011年 5月26日
再表 2009-96515	マイクロ波プラズマ処理装置	2011年 5月26日
再表 2009-96251	アモルファスハイドロカーボン膜の後処理方法およびその方法を用いた電子デバイスの製造方法	2011年 5月26日
特開 2011-103438	基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2011年 5月26日
再表 2009-98969	液処理装置および液処理方法	2011年 5月26日
再表 2009-90979	キャパシタ、半導体装置、およびこれらの作製方法	2011年 5月26日
特開 2011-103422	基板処理装置	2011年 5月26日
特開 2011-103496	成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2011年 5月26日
特開 2011-99847	圧力センサ素子およびシート状圧力センサ	2011年 5月19日	共同出願
特開 2011-101581	アクチュエータ素子およびシート状アクチュエータ	2011年 5月19日	共同出願
特開 2011-100969	超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体	2011年 5月19日
特開 2011-99156	搬送アームの洗浄方法、基板処理装置の洗浄方法及び基板処理装置	2011年 5月19日
特開 2011-100962	成膜方法及びプラズマ処理装置	2011年 5月19日

621 件中 331-345 件を表示

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2011-103489 2011-103274 2009-99186 2009-96515 2009-96251 2011-103438 2009-98969 2009-90979 2011-103422 2011-103496 2011-99847 2011-101581 2011-100969 2011-99156 2011-100962

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