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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
(2010年:第57位 692件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
(2010年:第39位 580件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-514678 | 有孔性低誘電率誘電膜の硬化方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-86765 | 自己組織化単分子膜有機トランジスタとその製造方法、及びそれを用いたバイオセンサ及びその製造方法 | 2011年 4月28日 | 共同出願 |
特開 2011-86826 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86807 | 減圧乾燥装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86912 | 成膜装置 | 2011年 4月28日 | |
特表 2011-513983 | 滑らかで凝集しないCuシード層を用いた気泡の存在しない凹部のCu充填体 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86965 | 処理方法及び処理システム | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86827 | 基板加熱装置、基板加熱方法及び記憶媒体 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86724 | 現像処理方法及び現像処理装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86712 | 基板載置台の温度制御システム及びその温度制御方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86677 | 基板冷却装置、基板冷却方法及び記憶媒体 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86676 | 加熱処理装置、加熱処理方法及び記憶媒体 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-82580 | 基板搬送装置 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82557 | ヘキサクロロシランからのシリコン含有膜の堆積 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82180 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2011年 4月21日 |
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2011-514678 2011-86765 2011-86826 2011-86807 2011-86912 2011-513983 2011-86965 2011-86827 2011-86724 2011-86712 2011-86677 2011-86676 2011-82580 2011-82557 2011-82180
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2月25日(火) -
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2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
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