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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特表 2011-514678 有孔性低誘電率誘電膜の硬化方法 2011年 5月 6日
特開 2011-86765 自己組織化単分子膜有機トランジスタとその製造方法、及びそれを用いたバイオセンサ及びその製造方法 2011年 4月28日 共同出願
特開 2011-86826 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 2011年 4月28日
特開 2011-86807 減圧乾燥装置 2011年 4月28日
特開 2011-86912 成膜装置 2011年 4月28日
特表 2011-513983 滑らかで凝集しないCuシード層を用いた気泡の存在しない凹部のCu充填体 2011年 4月28日
特開 2011-86965 処理方法及び処理システム 2011年 4月28日
特開 2011-86827 基板加熱装置、基板加熱方法及び記憶媒体 2011年 4月28日
特開 2011-86724 現像処理方法及び現像処理装置 2011年 4月28日
特開 2011-86712 基板載置台の温度制御システム及びその温度制御方法 2011年 4月28日
特開 2011-86677 基板冷却装置、基板冷却方法及び記憶媒体 2011年 4月28日
特開 2011-86676 加熱処理装置、加熱処理方法及び記憶媒体 2011年 4月28日
特開 2011-82580 基板搬送装置 2011年 4月21日
特開 2011-82557 ヘキサクロロシランからのシリコン含有膜の堆積 2011年 4月21日
特開 2011-82180 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2011年 4月21日

621 件中 376-390 件を表示

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2011-514678 2011-86765 2011-86826 2011-86807 2011-86912 2011-513983 2011-86965 2011-86827 2011-86724 2011-86712 2011-86677 2011-86676 2011-82580 2011-82557 2011-82180

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