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東京エレクトロン株式会社

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　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-119662	成膜装置	2013年 6月17日	共同出願
特表 2013-524517	リソグラフィ用途において放射線感受性を有する材料のラインを細くする方法	2013年 6月17日	共同出願
特開 2013-118229	搬送装置及び基板処理システム	2013年 6月13日
特開 2013-118211	基板収納容器	2013年 6月13日
特開 2013-118411	成膜装置	2013年 6月13日
特開 2013-118398	プラズマ処理装置	2013年 6月13日
特開 2013-117067	酸化ルテニウム膜の成膜方法	2013年 6月13日
特開 2013-117507	光干渉システム、基板処理装置及び測定方法	2013年 6月13日
再表 2011-99159	並列入出力信号分配器および並列入出力信号の分配方法	2013年 6月13日
特開 2013-115117	資源再利用装置、処理装置群コントローラ、資源再利用システム、資源再利用方法、及び資源再利用プログラム	2013年 6月10日
再表 2011-96208	基板保持具及び基板搬送装置及び基板処理装置	2013年 6月10日
特開 2013-115264	被処理基板支持構造、およびプラズマ処理装置	2013年 6月10日
特開 2013-115208	気化原料供給装置、これを備える基板処理装置、及び気化原料供給方法	2013年 6月10日
特開 2013-115141	基板処理装置	2013年 6月10日
特開 2013-112846	めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体	2013年 6月10日

712 件中 376-390 件を表示

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2013-119662 2013-524517 2013-118229 2013-118211 2013-118411 2013-118398 2013-117067 2013-117507 2011-99159 2013-115117 2011-96208 2013-115264 2013-115208 2013-115141 2013-112846

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