特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第62位　621件（2010年：第57位　692件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第41位　739件（2010年：第39位　580件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
再表 2009-72341	プローブ装置	2011年 4月21日
特開 2011-82581	メモリ装置	2011年 4月21日
特開 2011-82577	基板処理方法	2011年 4月21日
特開 2011-82565	基板の処理装置	2011年 4月21日
特開 2011-82560	微細パターンの形成方法	2011年 4月21日
特開 2011-82495	基板液処理装置及び処理液生成方法並びに処理液生成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2011年 4月21日
特開 2011-82352	塗布現像装置及び塗布現像方法	2011年 4月21日
特開 2011-82279	基板処理装置	2011年 4月21日
特開 2011-82276	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2011年 4月21日
特開 2011-82200	現像処理方法	2011年 4月21日
特開 2011-77131	半導体製造装置の洗浄装置	2011年 4月14日	共同出願
特開 2011-77027	Ｘ線発生用ターゲット、Ｘ線発生装置、及びＸ線発生用ターゲットの製造方法	2011年 4月14日	共同出願
特開 2011-77288	搬送装置	2011年 4月14日
特開 2011-77127	搬送装置	2011年 4月14日
特開 2011-77110	シリサイドの形成方法及び半導体装置	2011年 4月14日

621 件中 391-405 件を表示

... 27

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2009-72341 2011-82581 2011-82577 2011-82565 2011-82560 2011-82495 2011-82352 2011-82279 2011-82276 2011-82200 2011-77131 2011-77027 2011-77288 2011-77127 2011-77110

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数