特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-93223	プラズマ処理装置、および高周波発生器	2014年 5月19日
特表 2014-512096	多層マスクのパターン限界寸法及びインテグリティを制御するためのエッチングプロセス	2014年 5月19日	共同出願
特表 2014-511565	広い処理範囲の計測用ライブラリ	2014年 5月15日	共同出願
特開 2014-87781	基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2014年 5月15日
特開 2014-90212	処理容器構造及び処理装置	2014年 5月15日
特開 2014-90181	成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2014年 5月15日
特開 2014-90013	基板処理装置	2014年 5月15日
特開 2014-89976	プラズマ処理装置及びこれに用いる遅波板	2014年 5月15日
特開 2014-90174	排気システムの洗浄方法	2014年 5月15日
特開 2014-90145	熱処理装置	2014年 5月15日
特開 2014-90078	流体加熱装置、その運転制御方法、流体加熱装置を備えた基板処理システム、および記憶媒体	2014年 5月15日
特開 2014-90058	マイクロ波加熱処理装置および処理方法	2014年 5月15日
特開 2014-90022	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2014年 5月15日
特開 2014-90015	基板乾燥方法、液処理システムおよび記憶媒体	2014年 5月15日
特開 2014-89876	プラズマ処理装置	2014年 5月15日

685 件中 391-405 件を表示

... 27

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-93223 2014-512096 2014-511565 2014-87781 2014-90212 2014-90181 2014-90013 2014-89976 2014-90174 2014-90145 2014-90078 2014-90058 2014-90022 2014-90015 2014-89876

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数