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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-110324	基板処理装置および基板処理方法	2013年 6月 6日
特開 2013-110278	液処理装置及び液処理方法	2013年 6月 6日
特開 2013-110139	半導体装置の製造方法	2013年 6月 6日
特開 2013-105664	高周波アンテナ回路及び誘導結合プラズマ処理装置	2013年 5月30日
特開 2013-105543	基板処理装置	2013年 5月30日
特開 2013-104934	露光装置及び露光方法	2013年 5月30日
特開 2013-105974	洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 5月30日
特開 2013-105915	温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法	2013年 5月30日
特開 2013-105867	基板保持体、基板保持体の再生方法及び基板保持体の製造方法	2013年 5月30日
特開 2013-105777	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2013年 5月30日
特開 2013-105750	複数の高周波（ＲＦ）出力素子を利用してプラズマ特性を制御するＲＦ出力結合システム	2013年 5月30日
特開 2013-105359	温度制御システム、半導体製造装置及び温度制御方法	2013年 5月30日	共同出願
特開 2013-100205	前処理方法、グラフェンの形成方法及びグラフェン製造装置	2013年 5月23日
特開 2013-102214	ガス供給装置、基板処理装置および基板処理方法	2013年 5月23日
特開 2013-102048	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2013年 5月23日

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2013-110324 2013-110278 2013-110139 2013-105664 2013-105543 2013-104934 2013-105974 2013-105915 2013-105867 2013-105777 2013-105750 2013-105359 2013-100205 2013-102214 2013-102048

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