特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-110324	基板処理装置および基板処理方法	2013年 6月 6日
特開 2013-110278	液処理装置及び液処理方法	2013年 6月 6日
特開 2013-110139	半導体装置の製造方法	2013年 6月 6日
特開 2013-105664	高周波アンテナ回路及び誘導結合プラズマ処理装置	2013年 5月30日
特開 2013-105543	基板処理装置	2013年 5月30日
特開 2013-104934	露光装置及び露光方法	2013年 5月30日
特開 2013-105974	洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 5月30日
特開 2013-105915	温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法	2013年 5月30日
特開 2013-105867	基板保持体、基板保持体の再生方法及び基板保持体の製造方法	2013年 5月30日
特開 2013-105777	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2013年 5月30日
特開 2013-105750	複数の高周波（ＲＦ）出力素子を利用してプラズマ特性を制御するＲＦ出力結合システム	2013年 5月30日
特開 2013-105359	温度制御システム、半導体製造装置及び温度制御方法	2013年 5月30日	共同出願
特開 2013-100205	前処理方法、グラフェンの形成方法及びグラフェン製造装置	2013年 5月23日
特開 2013-102214	ガス供給装置、基板処理装置および基板処理方法	2013年 5月23日
特開 2013-102048	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2013年 5月23日

712 件中 406-420 件を表示

... 28

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-110324 2013-110278 2013-110139 2013-105664 2013-105543 2013-104934 2013-105974 2013-105915 2013-105867 2013-105777 2013-105750 2013-105359 2013-100205 2013-102214 2013-102048

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数