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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
(2012年:第53位 714件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
(2012年:第37位 902件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-110324 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-110278 | 液処理装置及び液処理方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-110139 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-105664 | 高周波アンテナ回路及び誘導結合プラズマ処理装置 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105543 | 基板処理装置 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-104934 | 露光装置及び露光方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105974 | 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105915 | 温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105867 | 基板保持体、基板保持体の再生方法及び基板保持体の製造方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105777 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105750 | 複数の高周波(RF)出力素子を利用してプラズマ特性を制御するRF出力結合システム | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105359 | 温度制御システム、半導体製造装置及び温度制御方法 | 2013年 5月30日 | 共同出願 |
特開 2013-100205 | 前処理方法、グラフェンの形成方法及びグラフェン製造装置 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-102214 | ガス供給装置、基板処理装置および基板処理方法 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-102048 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2013年 5月23日 |
712 件中 406-420 件を表示
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2013-110324 2013-110278 2013-110139 2013-105664 2013-105543 2013-104934 2013-105974 2013-105915 2013-105867 2013-105777 2013-105750 2013-105359 2013-100205 2013-102214 2013-102048
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7月31日(木) - 東京 港区
厚生労働省:政府のAI戦略から医療AIに関する具体施策について ~新しい科学的発見、国民生活の向上に繋がるAI活用の可能性と課題~
7月28日(月) -
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
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